Semiceraсунуш кылууга кубанычтаPFA кассетасы, химиялык туруктуулук жана туруктуулук эң маанилүү болгон чөйрөлөрдө вафли менен иштөө үчүн премиум тандоо. Жогорку тазалыктагы Perfluoroalkoxy (PFA) материалынан жасалган бул кассета пластинкаңыздын коопсуздугун жана бүтүндүгүн камсыз кылуу менен жарым өткөргүчтөрдү жасоодогу эң татаал шарттарга туруштук берүү үчүн иштелип чыккан.
Теңдешсиз химиялык туруктуулукThePFA кассетасыагрессивдүү кислоталарды, эриткичтерди жана башка катаал химиялык заттарды камтыган процесстер үчүн эң сонун тандоо кылып, химиялык заттардын кеңири спектрине жогорку туруктуулукту камсыз кылуу үчүн иштелип чыккан. Бул күчтүү химиялык туруктуулук кассетанын эң коррозиялык чөйрөлөрдө да бүтүн жана иштешин камсыздайт, ошону менен анын иштөө мөөнөтүн узартат жана тез-тез алмаштыруунун зарылдыгын азайтат.
Жогорку тазалыктагы курулушSemicera'sPFA кассетасыультра таза PFA материалынан өндүрүлгөн, ал пластинаны иштетүүдө булгануунун алдын алууда маанилүү. Бул жогорку тазалыктагы конструкция бөлүкчөлөрдүн пайда болуу жана химиялык жууп кетүү коркунучун азайтып, пластинкаңыздын сапатын начарлатуучу кирлерден корголушун камсыздайт.
Жакшыртылган туруктуулук жана аткарууТуруктуулугу үчүн иштелип чыкканPFA кассетасыэкстремалдык температурада жана катаал иштетүү шарттарында өзүнүн структуралык бүтүндүгүн сактайт. Жогорку температурага дуушар болобу же кайра-кайра иштетүүгө дуушар болобу, бул кассета өзүнүн формасын жана өндүрүмдүүлүгүн сактап, талап кылынган өндүрүш чөйрөсүндө узак мөөнөттүү ишенимдүүлүктү камсыз кылат.
Коопсуз иштетүү үчүн так инженерияTheSemicera PFA кассетасыкоопсуз жана туруктуу пластинка менен иштөөнү камсыз кылган так инженерияны өзгөчөлүктөрү. Ар бир уяча пластиналарды бекем кармап туруу үчүн кылдаттык менен иштелип чыккан, бул зыянга алып келиши мүмкүн болгон кыймылдардын же жылыштардын алдын алуу. Бул так инженерия пластинаны ырааттуу жана так жайгаштырууну колдойт, бул процесстин жалпы натыйжалуулугуна салым кошот.
Процесстерде ар тараптуу колдонууАнын жогорку материалдык касиеттери аркасындаPFA кассетасыжарым өткөргүчтөрдү даярдоонун ар кандай этаптарында колдонуу үчүн жетиштүү универсалдуу. Ал өзгөчө нымдуу оюу, химиялык бууларды түшүрүү (CVD) жана катаал химиялык чөйрөнү камтыган башка процесстер үчүн абдан ылайыктуу. Анын ийкемдүүлүгү аны процесстин бүтүндүгүн жана пластинанын сапатын сактоодо маанилүү куралга айлантат.
Сапатка жана рационализатордукка умтулууSemicera компаниясында биз эң жогорку тармактык стандарттарга жооп берген өнүмдөрдү камсыз кылууга умтулабыз. ThePFA кассетасыСиздин өндүрүш процесстериңизге үзгүлтүксүз интеграцияланган ишенимдүү чечимди сунуштап, бул милдеттенменин үлгүсүн көрсөтөт. Ар бир кассетанын сапаты катуу көзөмөлгө алынат, ал биздин катуу аткаруу критерийлерибизге жооп берип, Semicera сиз күткөн мыктылыкты камсыз кылат.
| Items | Өндүрүш | Изилдөө | Dummy |
| Crystal Parameters | |||
| Политип | 4H | ||
| Бетти багыттоо катасы | <11-20 >4±0,15° | ||
| Электрдик параметрлер | |||
| Dopant | n-типтеги азот | ||
| Каршылык | 0,015-0,025 Ом·см | ||
| Механикалык параметрлер | |||
| Диаметри | 150,0±0,2мм | ||
| Калыңдыгы | 350±25 мкм | ||
| Негизги жалпак багыт | [1-100]±5° | ||
| Негизги жалпак узундугу | 47,5±1,5мм | ||
| Экинчи батир | Жок | ||
| TTV | ≤5 мкм | ≤10 мкм | ≤15 мкм |
| LTV | ≤3 мкм (5мм*5мм) | ≤5 мкм (5мм*5мм) | ≤10 мкм (5мм*5мм) |
| Жаа | -15μm ~ 15μm | -35μm ~ 35μm | -45μm ~ 45μm |
| Warp | ≤35 мкм | ≤45 мкм | ≤55 мкм |
| Алдыңкы (Si-бет) оройлугу (AFM) | Ra≤0,2нм (5мкм*5мкм) | ||
| Структура | |||
| Микропродукттун тыгыздыгы | <1 эа/см2 | <10 эа/см2 | <15 эа/см2 |
| Металл аралашмалары | ≤5E10атом/см2 | NA | |
| BPD | ≤1500 ea/cm2 | ≤3000 ea/cm2 | NA |
| TSD | ≤500 ea/cm2 | ≤1000 ea/cm2 | NA |
| Front Quality | |||
| Фронт | Si | ||
| Беттик бүтүрүү | Si-face CMP | ||
| Бөлүктөр | ≤60ea/вафли (өлчөмү≥0,3μm) | NA | |
| сызыктар | ≤5ea/мм. Кумулятивдүү узундук ≤Diameter | Кумулятивдүү узундук≤2*Диаметр | NA |
| Апельсин кабыгы/чуңкурлары/тактары/сызыктар/ жаракалар/булгануу | Жок | NA | |
| Edge чиптер / чегиндилер / сынык / алтылык плиталар | Жок | ||
| Политип аймактары | Жок | Кумулятивдүү аянты≤20% | Кумулятивдүү аянты≤30% |
| Алдыңкы лазердик белгилөө | Жок | ||
| Артка сапаты | |||
| Артка бүтүрүү | C-бет CMP | ||
| сызыктар | ≤5ea/mm,Кумулятивдик узундук≤2*Диаметр | NA | |
| Арткы мүчүлүштүктөр (четиндеги чиптер/чыгымдар) | Жок | ||
| Артка оройлук | Ra≤0,2нм (5мкм*5мкм) | ||
| Артка лазердик белгилөө | 1 мм (жогорку четинен) | ||
| Edge | |||
| Edge | Chamfer | ||
| Таңгактоо | |||
| Таңгактоо | Вакуумдук таңгак менен эпи-даяр Көп катмарлуу кассеталык таңгак | ||
| *Эскертүү: "NA" эч кандай суроону билдирет. | |||
