Semicera ар кандай компоненттер жана ташыгычтар үчүн атайын тантал карбид (TaC) каптоо менен камсыз кылат.Semicera алдыңкы каптоо процесси тантал карбидинин (TaC) каптоолоруна жогорку тазалыкка, жогорку температуранын туруктуулугуна жана жогорку химиялык толеранттуулукка жетишүүгө, SIC/GAN кристаллдарынын жана EPI катмарларынын продуктунун сапатын жакшыртууга мүмкүндүк берет (Графит менен капталган TaC сезгич), жана реактордун негизги компоненттеринин иштөө мөөнөтүн узартуу. Тантал карбидинин TaC каптоосун колдонуу четки көйгөйдү чечүү жана кристаллдын өсүшүнүн сапатын жакшыртуу болуп саналат, ал эми Semicera эл аралык алдыңкы деңгээлге чыгып, тантал карбидинин каптоо технологиясын (CVD) чечти.
Көп жылдык өнүгүүдөн кийин, Semicera технологиясын багындырдыCVD TaCилимий-изилдөө бөлүмүнүн биргелешкен аракети менен. SiC пластинкаларынын өсүү процессинде кемчиликтер оңой, бирок колдонуудан кийин пайда болотTaC, айырма олуттуу. Төмөндө бир кристалл өсүш үчүн TaC менен жана жок вафли, ошондой эле Simicera' бөлүктөрүнүн салыштыруу болуп саналат.
TaC менен жана жок
TaC колдонгондон кийин (оңдо)
Анын үстүнө, Semicera'sTaC капталган буюмдарсалыштырмалуу узак кызмат мөөнөтүн жана көбүрөөк жогорку температурага каршылык көрсөтөтSiC каптоо.Лабораториялык өлчөөлөр көрсөткөндөй, биздинTaC жабууларыузак убакыт бою 2300 градус Цельсийге чейинки температурада ырааттуу иштей алат. Төмөндө биздин үлгүлөрүнүн кээ бир мисалдары келтирилген:
